大型真空等離子體清洗設(shè)備VPS-RF210簡介：

VPS-RF210是一款大型真空等離子體清洗設(shè)備，適用于大批量工業(yè)生產(chǎn)使用。等離子體清洗通過其中的活性離子與物體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來達(dá)到清洗的目的。例如通過氧氣清潔物體表面的有機(jī)物，產(chǎn)生氧化反應(yīng)，氧等離子體和污染物產(chǎn)生二氧化碳、氧化碳和水。通過氮?dú)怆婋x形成的等離子體可以與部分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應(yīng)，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，顆粒相對(duì)較重；在清洗和活化的同時(shí)，可以達(dá)到一定的轟擊和蝕刻效果，防止部分金屬表面氧化。如今，等離子清洗機(jī)廣泛用于當(dāng)代半導(dǎo)體、電路等行業(yè)，在元件封裝前、芯片鍵合前可借助等離子清洗處理，其優(yōu)點(diǎn)是清除效率高，不會(huì)對(duì)樣品表面造成損傷，從而提升產(chǎn)品的質(zhì)量。

大型真空等離子體清洗設(shè)備特點(diǎn)：歐美放電技術(shù)，專業(yè)型放電結(jié)構(gòu)，科學(xué)仿真等離子體分布均勻，處理效果均勻。

產(chǎn)品應(yīng)用：提高親水性、改善粘接性、表面微刻蝕、有機(jī)物去除、提高表面能、提高印刷油墨附著力。

產(chǎn)品參數(shù)：